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微电子

化学气相沉积(CVD)技术是全球范围材料制作与加工行业应用较为广泛的一种生产工艺,其机理是通过外来能量(热源,等离子)激活气态物质发生反应,生成能够沉积在反应表面的密度稍大的较重物质层,从而均匀地给表面镀上一层的薄膜。目前CVD主要应用于电子行业,包括集成电路、光电仪器、电子传感器的制作与加工;催化剂生产;金属的精细加工(如磨具、钻头加工),玻璃的生产,防高温的陶瓷制品制作等等。


Reaction Design开发的CHEMKIN系列软件可以对CVD工艺进行较好的模拟,能够形象地反映表面反应的过程,包括产物浓度的变化、产物沉积速率以及温度和流场的分布等,从而可以帮助企业减少有害物质的排放,优化生产工艺。


主要应用包括:


♦  旋转盘、管道流动,多晶片反应器中CVD过程


♦  反应器中工況参数优化


典型算例:


     ♦  旋转条件下硅烷气相沉积工艺模拟


          •  惰性气体氦气中1%的硅烷常温下从上往下注入;


                 ►  沉积墙面温度1000K,且高速旋转1000rpm;


                 ►  17种反应物,26个可逆反应,其中13个表面反应;


        •  核心探讨


                      ►  分析反应物的流动,反应,沉积过程;


                      ►  了解沉积速率,产物浓度分布等细微变化。



图1 表面反应各反应物、产物浓度以及温度和速度分布图




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